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物質(zhì)經(jīng)X 射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定

狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái)，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X 射線鍍層厚度測(cè)

量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度，來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。

照射X 射線 鍍層的熒光X 射線

 

X-RAY鍍層測(cè)厚儀主要應(yīng)用方面：

由于可測(cè)量的元素范圍從鋁至鈾，X射線的應(yīng)用范圍從工業(yè)應(yīng)用伸展到科學(xué)應(yīng)用。它可應(yīng)用于治金學(xué)、地質(zhì)學(xué)、鑒證學(xué)或自然科學(xué)等，在工業(yè)方面，廣泛用于五金電鍍、電子半導(dǎo)體、PCB線路、首飾珠寶、衛(wèi)浴、汽配的成份分析和鍍層測(cè)量方面。

 

X-RAY鍍層測(cè)厚儀采用X射線熒光的工作原理是，X 射線管產(chǎn)生初級(jí)射線照射在受檢物質(zhì)時(shí)，會(huì)激發(fā)物質(zhì)放射X－射線螢光輻射，特定的元素有特定的輻射信號(hào)，接收器便會(huì)記錄這些能量光譜。不需要先對(duì)樣品進(jìn)行處理便能測(cè)量，樣品可直接放入測(cè)量室進(jìn)行測(cè)量。

 

X-RAY鍍層測(cè)厚儀主要特點(diǎn) 

　　搭載樣品尺寸的兼容性，能夠通過(guò)一臺(tái)儀器測(cè)量，從電子部件、電路板到機(jī)械部件等高度較高的樣品。

　　具有焦點(diǎn)距離切換功能，適用于有凹凸的機(jī)械部件與電路板的底部進(jìn)行測(cè)量。

　　彩色CCD攝像頭，通過(guò)CCD攝像機(jī)來(lái)觀察及選擇任意的微小面積以進(jìn)行微小面積鍍層厚度的測(cè)量，避免直接接觸或破壞被測(cè)物。 

　　鹵素?zé)粽彰鳌?/div>